Установка двухсторонней фотолитографии BHS-602
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в производстве оптоэлектронных приборов, силовой электроники, сенсоров, гибридных интегральных схем, СВЧ устройств, МЭМС и в других применениях.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 6” (Ø150мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 7” (175 x 175мм) |
| Точность совмещения | ±3 мкм |
| Разрешение | 6 мкм (при позитивном фоторезисте толщиной не более 1 мкм) |