Установки фотолитографии серии GHS-406
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, дискретных полупроводниковых приборов, светодиодов, силовой электроники и в других применениях.
Установки данной серии обеспечивают как одно- так и двустороннее совмещения для пластин 4” и 6” и экспонирование по одной стороне.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 6” (Ø150мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 7” (175 x 175мм) |
| Точность совмещения, верхняя сторона | ±0.5 мкм |
| Точность совмещения, нижняя сторона | ±4 мкм |
| Разрешение | 1.5 мкм (при вакуумном контакте) |
Документы